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技術の特徴


【独自の真空蒸着技術】
独自の真空蒸着技術はナノレベルで膜の表面構造、結晶構造、膜構成を制御することが可能で、高い耐熱性と吸収特性を有する吸収膜の開発、量産化に成功しました。紫外、可視、赤外光波長で99%以上の光吸収を実現し、メッキ法、陽極酸化被膜などの従来技術では実現が困難であった光吸収性を達成いたしました。それにより実現した製品が、光吸収膜(無反射膜)、太陽熱発電向けの光選択吸収膜、アルミ電解コンデンサ向けの表面積拡大電極箔などになります。

【光吸収膜の特徴】
・99%の光吸収率(波長に依存)
・完全な無機質素材による低アウトガス性
・耐熱性(-269 to 350[C] )
・あらゆる基板への成膜が可能
(金属、ガラス、セラミック、プラスチックにも可能)
・様々な形状への成膜が可能
(凹凸、曲面などへも制限なし)
・薄膜性と膜厚精度
・耐振動特性と非粒子化特性
・耐摩耗性
・熱伝導率の制御
・電気導電性の制御
・無害な光学薄膜
・ATOX、宇宙放射線への高い耐性

【アプリケーション】
赤外線カメラ内部の迷光除去膜
可視光レンズ縁への成膜
赤外光レンズ縁への成膜
冷却型赤外線イメージセンサのレンズホルダー内部の赤外線吸収膜
焦電型赤外線検出素子の吸収膜
測光センサの遮光膜
医療用光学機器内部への成膜
宇宙航空用途の光学システム(宇宙望遠鏡など)
マシンビジョンシステムの光学系への成膜
顕微鏡の筺体、レンズへの成膜
車載用カメラ・ヘッドアップディスプレイ
レーザー加工機の光学システムへの成膜

【光学特性】


【物性特性】

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紫外、可視、赤外線吸収、迷光除去膜、光吸収材

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