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Litho Black ™

Litho-BlackTM (微細加工対応の遮光膜)

Litho-BlackTM
Litho-BlackTM
は、フォトリソグラフィー技術、エッチング技術といった微細加工技術の利用に適した光吸収膜、光遮光膜です。
膜厚2um程度で、紫外、可視、赤外光領域で97%以上の吸収特性を示し、フォトリソグラフィー、エッチング処理との高い互換性を兼ね備えています。
Litho-BlackTMは非鉄金属、非鉄金属酸化物から構成されていて、成膜過程で有機物質、化学薬品は使用されません。無機質物質による成膜のため、アウトガスの発生もありません。Litho-BlackTMは弊社光吸収膜・遮光膜シリーズ最新タイプとなります。
独自の真空真空蒸着技術を使用して成膜された光吸収膜・遮光膜は、真空、極低温環境にも優れた適応性があり、宇宙での使用を含む広範なアプリケーションで適用が可能です。

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Litho-BlackTM の特徴
低反射率
導電性制御(一定の範囲で)
フォトリソグラフィ-技術への互換性
エッチング技術技術への互換性
3umスケール
あらゆる基板への成膜が可能(シリコン、ガラスなど)
低アウトガス
非粒子化
180℃以下の低温処理が可能

 

Litho-BlackTM アプリケーション

1.焦電型赤外線センサ用の赤外光吸収膜
赤外線を高効率で吸収し、より多くの熱が焦電部へ伝達されることで、高精度な赤外線感知が可能。

2.測光センサ用の光遮光膜
耐候性に優れた工業用途向け光遮光膜で、高精度なパターニングレベルと膜厚公差をもつ。

3. 1024 Element Uncooled Linear Array Wafer
Electrically insulating, low reflective coating covering the entire surface; leaving accurately sized windows over the elements.
generates uniform element width for uniform element response by covering spare edges.
non-sensitive areas covered with low reflectivity coating for stray light suppression.


 

 


Note: the values are average for above selected wavelength band
Dimensions:
Width:      mm
Length:   mm
Immediate Need Quantity:

Projected Annual Requirements:
Operational Environmental Conditions:
Temperature: °C
Humidity:        
Notes / Additional Requirements

Name:*          
Organization: 
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Phone No.:    
Subject:

© ACKTAR Ltd.19 Topaz St., P.O.B. 8643; Kiryat-Gat , 8258401Israel
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